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精密原模設(shè)計與材料選擇
IC載板封裝植球網(wǎng)片加工需基于微米級設(shè)計圖紙（孔徑精度±2μm），采用鎳合金或鈦基材料制備原模，匹配載板植球的直徑（0.1~0.3mm）與陣列排布要求。原模表面需經(jīng)電化學(xué)拋光降低粗糙度（Ra≤0.05μm），確保電鑄后網(wǎng)片孔壁光滑，避免焊球卡滯。

電鑄/蝕刻復(fù)合成型
通過電沉積工藝在IC載板封裝植球網(wǎng)片表面形成均勻金屬層（厚度50~150μm），或采用激光蝕刻技術(shù)在金屬薄板上直接開孔。為提升耐高溫性（可承受280℃回流焊），部分加工廠會疊加化學(xué)鍍鎳或金剛石涂層，確保網(wǎng)片在長期使用中不變形。

脫模與功能性檢測
剝離母模后，對IC載板封裝植球網(wǎng)片進(jìn)行自動化清洗、X射線孔位校準(zhǔn)（誤差＜5μm）及耐磨性測試。部分高端型號還需通過錫膏釋放率實(shí)驗（≥95%）及循環(huán)壽命驗證（≥10萬次植球），滿足半導(dǎo)體封裝高速貼裝需求。

IC載板封裝植球網(wǎng)片加工廠特性

核心技術(shù)優(yōu)勢：專業(yè)化IC載板封裝植球網(wǎng)片加工廠（如日立高新、ASMPT）普遍配備納米壓印設(shè)備及3D光學(xué)檢測系統(tǒng)，支持01005微焊球及Fan-Out先進(jìn)封裝網(wǎng)片定制，良率可達(dá)99.8%。
環(huán)保與合規(guī)性：頭部工廠采用無氰電鍍工藝，符合RoHS和IECQ-HSPM標(biāo)準(zhǔn)，并實(shí)現(xiàn)廢液金屬離子回收率≥98%。
應(yīng)用場景：產(chǎn)品覆蓋CSP/BGA封裝、晶圓級封裝（WLP）及2.5D/3D集成，尤其在AI芯片和高密度存儲芯片領(lǐng)域需求量激增。

IC載板封裝植球網(wǎng)片加工通過高精度電鑄/蝕刻工藝保障焊球定位一致性，其加工廠的核心競爭力體現(xiàn)在微孔成型技術(shù)和快速換線能力。典型企業(yè)如日立高新已推出全自動網(wǎng)片生產(chǎn)線，單日產(chǎn)能突破5000片，適配5nm以下制程的先進(jìn)封裝需求。