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1. 加工流程與技術難點

表面預處理：需強化酸洗處理（氫氟酸濃度增至10%~15%）以清除鈦合金表面多元氧化層（如Al?O?）并脫脂。

掩膜制作：采用光刻或絲印技術覆蓋抗蝕層，圖形轉移精度可達±0.01mm（適應手機鉸鏈微雕等精密需求）。

化學蝕刻：使用氫氟酸-硝酸混合液（HF:HNO?=1:3），溫度控制≤50℃以避免β相吸氫導致的氫脆風險，添加檸檬酸提升蝕刻均勻性。

后處理：電解拋光降低孔壁粗糙度至Ra≤0.4μm，并真空退火（300-400℃保溫2小時）消除殘余應力。

2. 工藝優勢與應用領域

高材料兼容性：支持TC4、TA15等鈦合金薄材（0.1-2mm）加工，滿足抗拉強度≥900MPa的高強需求。

精密加工能力：可蝕刻0.05mm微孔陣列（公差±0.005mm），用于折疊屏手機鈦合金鉸鏈、智能手表鏤空表殼等消費電子件。

多行業適配：

航空航天：發動機葉片氣膜孔加工（孔深徑比≥5:1）；

醫療：植入物表面微孔處理（促進骨組織結合）；

新能源：氫燃料電池鈦雙極板流道蝕刻（流道深度0.2mm±5%）。

3. 技術趨勢與挑戰

綠色化升級：探索無氟蝕刻液（如H?SO?-H?O?體系）減少廢液污染；

智能化控制：AI實時監測蝕刻速率與溫度，良率提升至98%以上。

鈦合金蝕刻憑借高精度與材料性能優勢，正加速在高端制造領域替代傳統工藝。